（以下本体从华福证券《基础化工：新材料周报：三菱化学文告扩产半导体超纯水离子交换树脂，国产光刻胶“自主可控”兑现要紧碎裂》研报附件原文选录）投资要点：本周行情转头。本周，Wind新材料指数收报3304.85点，环比高涨5.39%。其中，涨幅前五的有奥来德(38.87%)、晶瑞电材(26.64%)、斯迪克(20.85%)、阳谷华泰(19.81%)、瑞丰高材(17.64%)；跌幅前五的有凯赛生物(-7.4%)、曙光新材(-3.95%)、合盛硅业(-3.8%)、泛亚微透(-2.71%)、仙鹤股份(-2.33%)。六个子行业中，申万三级行业半导体材料指数收报6278.39点，环比高涨6.99%；申万三级行业显现器件材料指数收报1025.64点，环比高涨2.52%；中信三级行业有机硅材料指数收报5763.71点，环比下落1.18%；中信三级行业碳纤维指数收报1114.6点，环比高涨5.58%；中信三级行业锂电指数收报1802.85点，环比高涨4.21%；Wind宗旨可降解塑料指数收报1570.95点，环比高涨1.82%。三菱化学文告扩产半导体超纯水离子交换树脂。10月10日，三菱化学决定在日本九囿福冈工场加多用于坐褥半导体制造工艺超纯水的离子交换树脂的坐褥智商。升级后的设施规画于2026年4月干预运营。三菱化学的关联材料业务遮盖半导体制造的两大工序。其中，占半导体制造工序30%的清洗工序需要特定的清洗介质，凭据清洗介质的不同，现在半导体清洗技艺主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺道路。湿法清洗是针对不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆名义进行无损害清洗，以去除晶圆制造进程中的颗粒、当然氧化层、有机物、金属混浊、就义层、抛光残留物等物资。这次，三菱经受扩产的高等离子交换树脂可用于半导体湿法清洗工艺中所需的超纯水坐褥系统中的多样单位。（贵寓起头：三菱化学、化工新材料）国产光刻胶“自主可控”兑现要紧碎裂。据东湖国度自主翻新示范区官网10月15日音书，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150A-光刻胶产物，已通过半导体工艺量产考据，兑现配方全自主计划。该产物对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于海外同系列产物UV1610，T150A在光刻工艺中进展出的极限分袂率达120nm，且工艺宽厚度更大，平定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺进展更为友好，通过考据发现T150A中密集图形经过刻蚀，基层介质的侧壁垂直度进展优异。这标记着国产光刻胶在性能上依然好像与国际主流产物相忘形，关于推动国产光刻胶的产业化和自主可控具有进击意旨。（贵寓起头：东湖国度自主翻新示范区、科创板日报、中国光谷、化工新材料）要点方针：半导体材料国产化加快，下流晶圆厂扩产迅猛，看好头部企业产业红利上风最大化。光刻胶板块为我国自主可控之路上要津中枢法子，看好彤程新材在入口替代方面的高速进展。特气方面，华特气体深耕电子特气范围十余年，束缚翻新研发，兑现入口替代，西南基地重迭空分缔造双重布局，一体化产业链幅员初显，提倡柔和华特气体。电子化学品方面，下流晶圆厂缓缓落成，芯片产能有望捏续开释，提倡柔和：安集科技、鼎龙股份。下流需求推动产业升级和改良，行业迈入高速发缓期。国内捏续鼓励制造升级，高措施、高性能材料需求将缓缓开释，新材料产业有望快速发展。国瓷材料三伟业务保捏高增速，丝丝入扣打造齿科巨头，新动力业务爆发式增长，横向拓展、纵向蔓延打造新材料泰斗，提倡柔和新材料平台型公司国瓷材料。高分子材料的性能提高离不开高分子助剂，国内抗老化剂龙头利安隆，珠海新基地产能缓缓开释，凭借康泰股份，进军千亿润滑油添加剂，打造第二增长点，提倡柔和国内抗老化剂龙头利安隆。碳中庸配景下，绿电行业闹热发展，光伏风电装机量逐步攀升，提倡柔和上游原材料金属硅龙头企业合盛硅业、EVA粒子技艺行业卓绝的联泓新科、领有三氯氢硅产能的新安股份以及三孚股份。风险领导下流需求不足预期，产物价钱波动风险，新产能开释不足预期等

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